在半导体芯片制造的光刻核心环节，设备精度与稳定性直接决定产品竞争力！龙精密，作为国内领先的二手半导体设备供应商，为您带来高性能利器——CANONPLA-501FA投影式光刻机，以先进技术与超高性价比，助力企业突破光刻工艺瓶颈，抢占产业发展制高点！
CANONPLA-501FA投影式光刻机采用先进的光学投影系统与高精度工作台技术，实现对半导体晶圆的高分辨率图形转移。其配备的高数值孔径（NA）投影物镜，结合优化的照明系统，光刻分辨率可达250nm，套刻精度控制在±150nm以内，满足成熟制程芯片制造需求。设备搭载的双工件台系统，可实现晶圆的快速交换与定位，配合高速扫描曝光技术，单晶圆曝光时间缩短35%，每小时产能突破120片，大幅提升生产效率。
CANONPLA-501FA投影式光刻机
CANONPLA-501FA投影式光刻机
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在工艺适配性方面，PLA-501FA表现卓越。支持4-12英寸全尺寸晶圆处理，通过灵活可调的光源能量与均匀性控制系统，可适配多种光刻胶与掩膜版类型，精准完成金属互连层、介质层等关键层的光刻工艺。设备内置的智能工艺优化系统，可根据晶圆尺寸、光刻胶特性等参数，自动匹配最优曝光剂量、扫描速度、离焦量等工艺条件，有效降低工艺调试难度与时间成本，从容应对多样化生产需求。
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