金融界2025年6月27日消息，国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“具有机械介体层的自适应反射镜和微光刻投射曝光设备”的专利，公开号CN120225961A，申请日期为2023年09月。
专利摘要显示，本发明涉及一种用于微光刻投射曝光设备(600、700)的自适应反射镜(100)，包括反射镜基板(101)，包括光学有效表面(102)和用于反射入射到光学有效表面(102)上的电磁辐射的反射层系统(103)，包括用于产生光学有效表面(102)的局部可变变形的致动器层(104)，并且包括布置在致动器层(104)和反射层系统(103)之间的介体层(105)。所述介体层(105)形成为弹性机械介体层(105)，其中所述弹性机械介体层(105)的厚度为0.1mm至50mm，优选0.1mm至20mm，特别优选0.1mm至10mm，非常特别优选0.5mm至5mm，并且其中所述弹性机械介体层(105)的弹性模量为10GPa至300GPa，优选50GPa至150GPa，特别优选60GPa至80GPa。本发明另外涉及一种微光刻投射曝光系统。
本文源自金融界
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