在半导体芯片制造的光刻环节，设备精度直接关乎产品成败！龙精密，作为国内领先的二手半导体设备供应商，为您带来行业经典之作——NIKONNSRS204B分步投影光刻机，以成熟技术与高性价比，助力企业攻克光刻难题，抢占半导体制造高地！
NIKONNSRS204B分步投影光刻机采用先进的光学投影技术与高精度定位系统，实现对半导体晶圆的精准图形转移。其配备的高分辨率投影物镜，配合优化的曝光光源，光刻分辨率可达180nm，套刻精度控制在±120nm以内，满足成熟制程芯片的生产需求。设备搭载的双工件台系统，可快速完成晶圆交换与定位，大幅缩短曝光间隔时间，单晶圆曝光效率提升30%，每小时产能突破100片，有效提升生产效率。
NIKONNSRS204B分步投影光刻机
NIKONNSRS204B分步投影光刻机
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NIKONNSRS204B分步投影光刻机
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在工艺适配性方面，NSRS204B表现出色。支持4-12英寸全尺寸晶圆处理，通过灵活的光源强度调节与焦点控制功能，可适配多种光刻胶和掩膜版类型，从容应对金属互连层、介质层等关键层的光刻工艺。设备内置智能工艺优化系统，能根据晶圆尺寸、光刻胶特性等参数，自动匹配最优曝光剂量、扫描速度等工艺条件，大幅降低工艺调试难度，有效缩短生产周期，满足多样化生产需求。
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