华卓精科申请光刻机位移测量专利,可提高位移测量精度

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金融界2025年3月25日消息,国家知识产权局信息显示,北京华卓精科科技股份有限公司申请一项名为“光刻机位移测量系统”的专利,公开号CN119668037A,申请日期为2023年9月。

专利摘要显示,本发明公开一种光刻机位移测量系统,该位移测量系统包括掩模台六自由度位移测量子系统、光栅安装板六自由度位移测量子系统、工件台六自由度度位移测量子系统,分别用于测量掩模台相对主基板的空间位姿、第一光栅安装板相对于投影物镜/对准传感器的空间位姿,以及工件台相对第一光栅安装板的空间位姿。本发明一方面采用统一的电子计数模块,硬件板卡内使用统一的时钟参考信号,能够有效缓解系统之间的时间延迟问题,解决了不能同步测量部件之间的相对位移的难题,另一方面采用统一的光源信号和探测器,能够降低因光源波长扰动等因素带来的系统误差,提高同位移测量子系统内部件之间以及跨位移测量子系统部件之间的相对位移测量精度。

天眼查资料显示,北京华卓精科科技股份有限公司,成立于2012年,位于北京市,是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本24000万人民币,实缴资本1700万人民币。通过天眼查大数据分析,北京华卓精科科技股份有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目78次,财产线索方面有商标信息31条,专利信息618条,此外企业还拥有行政许可93个。

本文源自金融界

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